半导体干法刻蚀技术：原子层工艺

本书特色

参考文献

10.2 光子辅助化学刻蚀

10.1 电子辅助化学刻蚀

第10章 新兴刻蚀技术

参考文献

9.6 格栅源

9.5 等离子体脉冲

9.4 离子能量分布调制

9.3 电感耦合等离子体

9.2 电容耦合等离子体

9.1 低温等离子体概述

第9章 刻蚀物种产生

参考文献

8.2 应用示例

8.1 离子束刻蚀的机理和性能指标

第8章 离子束刻蚀

参考文献

7.3 应用示例

7.2 性能指标

7.1 反应离子刻蚀机制

第7章 反应离子刻蚀

参考文献

6.3 应用示例

6.2 性能指标

6.1 定向ALE机制

第6章 定向ALE

参考文献

5.3 应用示例

5.2 性能指标

5.1 自由基刻蚀机理

第5章 自由基刻蚀

参考文献

4.4 应用示例

4.3 等离子体辅助热各向同性ALE

4.2 性能指标

4.1 热各向同性ALE机制

第4章 热各向同性ALE

参考文献

3.2 应用示例

3.1 热刻蚀的机理和性能指标

第3章 热刻蚀

参考文献

2.9 刻蚀技术的分类

2.8 三维形貌中的输运现象

2.7 扩散

2.6 注入

2.5 溅射

2.4 表面反应

2.3 解吸

2.2 物理吸附和化学吸附

2.1 刻蚀工艺的重要性能指标

第2章 理论基础

参考文献

第1章 引言

缩写词表

译者序

作者简介

版权信息

封面

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译者序

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第1章 引言

参考文献

第2章 理论基础

2.1 刻蚀工艺的重要性能指标

2.2 物理吸附和化学吸附

2.3 解吸

2.4 表面反应

2.5 溅射

2.6 注入

2.7 扩散

2.8 三维形貌中的输运现象

2.9 刻蚀技术的分类

参考文献

第3章 热刻蚀

3.1 热刻蚀的机理和性能指标

3.2 应用示例

参考文献

第4章 热各向同性ALE

4.1 热各向同性ALE机制

4.2 性能指标

4.3 等离子体辅助热各向同性ALE

4.4 应用示例

参考文献

第5章 自由基刻蚀

5.1 自由基刻蚀机理

5.2 性能指标

5.3 应用示例

参考文献

第6章 定向ALE

6.1 定向ALE机制

6.2 性能指标

6.3 应用示例

参考文献

第7章 反应离子刻蚀

7.1 反应离子刻蚀机制

7.2 性能指标

7.3 应用示例

参考文献

第8章 离子束刻蚀

8.1 离子束刻蚀的机理和性能指标

8.2 应用示例

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第9章 刻蚀物种产生

9.1 低温等离子体概述

9.2 电容耦合等离子体

9.3 电感耦合等离子体

9.4 离子能量分布调制

9.5 等离子体脉冲

9.6 格栅源

参考文献

第10章 新兴刻蚀技术

10.1 电子辅助化学刻蚀

10.2 光子辅助化学刻蚀

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